晶圆切割UV解胶机
发表时间:2021-07-01 15:59:00浏览量:3098
一、工艺背景介绍
1,UV减粘膜是一种将特殊配方胶水涂布于PO/PET等薄膜基材表面,有较高的初粘力(最高达25N/25mm),而UV照射后,粘性降低(低至0.05N/25mm以下)的薄膜。
2,UV减粘膜在半导体领域的应用
封装制程流程图
UV减粘膜由于涂布特殊胶水,具高粘着力,所以在切割时能以超强的粘着力粘住晶片,即使是小晶片也不会发生位移或脱落,保证晶片于研磨、切割过程不脱落,不飞散,不扩张,防止崩边,保证加工品质。加工结束后,只要照射适量的紫外线就能瞬间的降低粘着力,即使是大晶片也可以用轻松正确的抓取而没有残胶污染,提高捡晶时的捡拾性.
二,设备简介及机台特点
设备简介
UV LED 解胶机是专用于半导体制程UV减粘工艺。该设备有使用操作方便、性能稳定、效率高和经济实用等优点。
机台特点
1、产品名称:实锐UV 解胶机;
2、产品型号:实锐UVG-200;
3、外形尺寸:L520*W490*H740(mm);
4、材质:外壳采用冷扎钢板折弯制作;
5、UV 光源强制风冷,温度低;
6、人体工程学操作界面,简单明了。